Masque Régénérant Exclusif NAC Y2 111SKIN 75 ml
Prix de vente : 133,45 € Prix actuel : 106,95 €
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Renforcez les défenses de votre peau contre le stress oxydatif quotidien avec le masque régénérant de 111SKIN, alimenté par le NAC Y2 breveté de la marque de soins de la peau innovante. Un trio d’actifs riches en antioxydants, le complexe anti-âge avancé protège la peau des agressions environnementales et favorise une synthèse optimale du glutathion, du collagène et de l’élastine dans la peau. Répondant aux problèmes courants tels que les irritations, les rougeurs et la perte de fermeté, le masque réparateur renforce la fonction de barrière, aidant ainsi votre peau à repousser les agresseurs qui déclenchent le vieillissement prématuré. Gardez votre visage tendu et jeune grâce à des soins scientifiquement prouvés.
Aqua / Water / Eau, Dipropylene Glycol, Butylene Glycol, Squalane, Cetyl Palmitate, Hydroxyethyl Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, 1,2-Hexanediol, Trehalose, Aloe Barbadensis (Aloe Vera) Leaf Extract, Propanediol, Panthenol, Acetyl Zingerone, Alcohol, C18-36 Acid Triglyceride, Phenoxyethanol, Glycerin, Jojoba Esters, Hydroxyacetophenone, Hydrogenated Olive Oil Unsaponifiables, Ceramide Np, Carbomer, C12-18 Acid Triglyceride, Caprylyl Glycol, Squalene, Sorbitan Isostearate, Polysorbate 60, Sodium Ascorbyl Phosphate, Tocopheryl Acetate, Potassium Hydroxide, Hydrogenated Lecithin, Ethylhexylglycerin, Magnesium Ascorbyl Phosphate, Ectoin, Allantoin, Mannitol, Glyceryl Stearate, Phytosteryl Macadamiate, Tasmannia Lanceolata Fruit/Leaf Extract, Silk Amino Acids, Ammonium Glycyrrhizate, Butyrospermum Parkii (Shea / Karité) Butter, Phytosterols, Cholesterol, Ceramide Ns, Ceramide As, Ceramide Ap, Tocopherol, Piperonyl Glucose, Centella Asiatica Leaf Extract, Caffeine, Acetyl Cysteine, Zinc Gluconate, Dipotassium Glycyrrhizate, Phenethyl Alcohol, Benzyl Alcohol, Aesculus Hippocastanum (Horse Chestnut / Marron) Seed Extract, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Maltodextrin, Pentapeptide 59, Ceramide Eop.
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